目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導電金屬氧化物、金屬網和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產品內部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環境中的醫療器械、船舶、飛機等精密設備發生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導電性）。事實上，ITO 技術是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術提供較低的電導率、較低的透明度和較高的氧化風險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導電金屬氧化物、金屬網和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產品內部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環境中的醫療器械、船舶、飛機等精密設備發生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導電性）。事實上，ITO 技術是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術提供較低的電導率、較低的透明度和較高的氧化風險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

目前用作 RFI（RF Interference-射頻干擾）屏蔽的材料范圍包括導電金屬氧化物、金屬網和納米線等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是銅材蝕刻加工后，通過壓合于膜材上，主要是對產品內部線路起到減弱或消除電磁干擾/射頻干擾的作用。

具有優良的電磁波屏蔽性能的柔性、薄、輕量的電磁波屏蔽膜，用于防止周圍環境中的醫療器械、船舶、飛機等精密設備發生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的電磁屏蔽和最佳的透明度（可見光透射率 >80%）。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的銅網為 ITO 屏蔽提供了很好的替代品（更好的電阻和導電性）。事實上，ITO 技術是基于具有非常薄層的支撐金屬化。該技術提供較低的電導率、較低的透明度和較高的氧化風險。這就是為什么我們更愿意提出這種基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。